光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線等照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。2016-2019年，全球半導(dǎo)體光刻膠的市場(chǎng)規(guī)模從15億美元增長(zhǎng)至2019年的18億美元，年復(fù)合增速達(dá)6.3%，2020年，全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模約為19億美元。全球半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域主要被JSR、TOK、羅門(mén)哈斯、信越化學(xué)、富士材料等頭部廠商壟斷，尤其是高端EUV和ArF光刻膠幾乎完全被美國(guó)和日本控制。國(guó)產(chǎn)光刻膠企業(yè)無(wú)論是技術(shù)水平還是市場(chǎng)份額均遠(yuǎn)落后世界先進(jìn)廠商。

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